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工業真空等離子處理機系列
真空等離(li)子處(chu)理機是一(yi)(yi)個(ge)具有多用途(tu)的機械系(xi)統,廣泛應用于活化,退鍍,改性,蝕(shi)刻,提升(sheng)附(fu)著力和清(qing)洗等等功能。腔體大小從20升(sheng)~1000升(sheng)以上,電源、真空泵(beng)、反應氣(qi)體等根據需(xu)求(qiu)靈(ling)活定制(zhi)(zhi),清(qing)洗工藝靈(ling)活可控制(zhi)(zhi),具有清(qing)洗溫度(du)低,效果好(hao),全(quan)方位(wei)清(qing)洗無死角,產(chan)能高(gao)等特點,是東信等離(li)子事業部門主推產(chan)品(pin)之(zhi)一(yi)(yi)
全國服(fu)務熱(re)線: 177-2797-3386
真空等離子處理機(ji)產(chan)品參數:
電源頻(pin)率 | 40KHz/13.56MHz可選 |
容量 | 20L~1000L |
功率 | 0-1000W(可調) |
腔體尺寸 | 定制 |
處理層數 | 定制 |
外形尺寸 | 定制 |
真空泵 | 油泵/干(gan)泵+羅茨(ci)組合(he) |
真空度 | 5-100pa(可調) |
腔(qiang)體材(cai)質 | 316不銹鋼(gang)/進口鋁(lv)合金(選配) |
氣體流量控制 | 0-500SCCM(MFC±2%) |
氣體通(tong)道 | 兩路(可(ke)增加):Ar/N2/H2/CF4/02 |
等離子體發生器 | 40KHz/13.56MHz |
腔體溫度 | <30℃ |
控制方式 | PLC+觸摸屏 |
系統(tong)控制軟件 | 自主研發V2.0 |
電極陶(tao)瓷 | 進口高頻陶瓷(ci) |
產品功能:
蝕刻:對于(yu)光(guang)致(zhi)抗蝕劑聚酰亞胺的(de)殘(can)留和(he)以硅(gui)化(hua)物為基(ji)本(ben)成分的(de)涂層等材料的(de)清除(chu)很有(you)用
粘附提升:往基(ji)質上(shang)添(tian)加活化能(neng)力強的化學基(ji)團以提高其粘合劑的黏著度。
清洗:清除材料(liao)上的(de)光學物(wu)質的(de)污染(ran)以及清除有機物(wu)殘留,氧(yang)化(hua)和金屬(shu)鹽等對材料(liao)的(de)污染(ran)。
活(huo)化(hua):能使處理基(ji)材表面生(sheng)成所需(xu)化(hua)學極鍵;
退鍍:使被處(chu)理基材(cai)除去金屬等材(cai)料,制(zhi)作各種產(chan)品。
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