薄膜電暈處理機一般包括了一個高頻高壓發生器和一個附帶金屬電極和支持卷軸的電暈處理站。它們互相平行，并以一個1.5mm的空氣間隙作為分隔。當電暈處理站輸入20～40kHz或數千伏高電壓時，電極間便會產生放電現象，在薄膜外表形成均勻火花。

薄膜電暈處理機容易出現的問題如下：

1電(dian)暈處(chu)理站的設(she)備配(pei)置和調整狀態

1.1理(li)想(xiang)的電(dian)(dian)暈處理(li)是電(dian)(dian)機的作業頻率正(zheng)確，輸(shu)出(chu)電(dian)(dian)壓和電(dian)(dian)流值適(shi)中(zhong)，放電(dian)(dian)過(guo)程有規律，這樣才(cai)能得到好的處理(li)效果。

1.2電(dian)暈處(chu)理輥(gun)與電(dian)極之(zhi)間(jian)(jian)的(de)間(jian)(jian)隙大(da)小必(bi)須(xu)保持(chi)一致，亦即(ji)兩者之(zhi)間(jian)(jian)既要有一定的(de)距離又要相互平行，這樣才(cai)能使(shi)膜(mo)外表處(chu)的(de)場強一樣，產生均勻的(de)電(dian)暈處(chu)理。一般二(er)者的(de)間(jian)(jian)隙在(zai)1.5～2.5mm。

1.3調整好電暈(yun)處(chu)理輥與其(qi)它牽引輥之(zhi)間的(de)平行度和電暈(yun)處(chu)理輥上(shang)壓(ya)輥壓(ya)力的(de)均(jun)(jun)勻性(xing)，這樣(yang)才能使(shi)膜在(zai)運行中平穩，不至于在(zai)電暈(yun)輥上(shang)發生起(qi)皺和斜扯，保(bao)持得(de)到均(jun)(jun)勻的(de)、足夠的(de)電暈(yun)量。

2膜面(mian)溫度和空氣相對濕(shi)度對電(dian)暈處理(li)的影響(xiang)

在電暈(yun)處理的(de)過程中，膜面溫度和空氣相對濕度是(shi)影響它的(de)兩(liang)個顯(xian)著的(de)變量。

隨著空(kong)(kong)氣(qi)相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)和(he)膜(mo)(mo)(mo)面(mian)(mian)(mian)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)增(zeng)大(da)(da)所需電(dian)暈(yun)(yun)(yun)處(chu)理(li)的(de)(de)(de)(de)時間就越(yue)長，也(ye)即薄膜(mo)(mo)(mo)越(yue)不容易(yi)被電(dian)暈(yun)(yun)(yun)處(chu)理(li)。這(zhe)是(shi)因(yin)為當空(kong)(kong)氣(qi)中相(xiang)對濕(shi)度(du)(du)增(zeng)大(da)(da)時，空(kong)(kong)氣(qi)中水(shui)分(fen)(fen)子(zi)的(de)(de)(de)(de)含量增(zeng)大(da)(da)，而(er)電(dian)暈(yun)(yun)(yun)過(guo)(guo)(guo)程中產(chan)(chan)(chan)生(sheng)(sheng)的(de)(de)(de)(de)臭(chou)氧(yang)可溶(rong)于(yu)水(shui)，在常溫(wen)(wen)(wen)常壓下(xia)，臭(chou)氧(yang)在水(shui)中的(de)(de)(de)(de)溶(rong)解度(du)(du)比(bi)氧(yang)約高(gao)13倍(bei)，比(bi)空(kong)(kong)氣(qi)高(gao)25倍(bei)。由于(yu)臭(chou)氧(yang)濃度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)下(xia)降，使(shi)含氧(yang)官(guan)能團在膜(mo)(mo)(mo)面(mian)(mian)(mian)生(sheng)(sheng)成(cheng)(cheng)及(ji)駐極的(de)(de)(de)(de)時機大(da)(da)大(da)(da)減小，從而(er)降低(di)(di)電(dian)暈(yun)(yun)(yun)處(chu)理(li)的(de)(de)(de)(de)效(xiao)果。隨著膜(mo)(mo)(mo)面(mian)(mian)(mian)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)增(zeng)高(gao)，使(shi)駐極分(fen)(fen)子(zi)的(de)(de)(de)(de)穩定(ding)性變差，外(wai)(wai)(wai)表分(fen)(fen)子(zi)遷(qian)移的(de)(de)(de)(de)比(bi)例增(zeng)大(da)(da)，不利于(yu)膜(mo)(mo)(mo)面(mian)(mian)(mian)的(de)(de)(de)(de)高(gao)外(wai)(wai)(wai)表能區域(yu)的(de)(de)(de)(de)形成(cheng)(cheng)，局部(bu)抵消了通過(guo)(guo)(guo)電(dian)暈(yun)(yun)(yun)增(zeng)加薄膜(mo)(mo)(mo)外(wai)(wai)(wai)表張(zhang)力(li)的(de)(de)(de)(de)作用。但(dan)另一(yi)(yi)方面(mian)(mian)(mian)，根(gen)據實際生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)(chan)中的(de)(de)(de)(de)經歷(li)，膜(mo)(mo)(mo)面(mian)(mian)(mian)的(de)(de)(de)(de)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)也(ye)并非(fei)越(yue)低(di)(di)越(yue)好。在生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)(chan)中，電(dian)暈(yun)(yun)(yun)處(chu)理(li)過(guo)(guo)(guo)程會(hui)產(chan)(chan)(chan)生(sheng)(sheng)大(da)(da)量的(de)(de)(de)(de)熱(re)。為防止膜(mo)(mo)(mo)面(mian)(mian)(mian)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)過(guo)(guo)(guo)高(gao)，通常我們(men)采用循環水(shui)輥內進展閉式循環，并增(zeng)加一(yi)(yi)套加熱(re)裝置使(shi)冷卻(que)水(shui)保持(chi)一(yi)(yi)定(ding)的(de)(de)(de)(de)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)。過(guo)(guo)(guo)低(di)(di)的(de)(de)(de)(de)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)會(hui)使(shi)膜(mo)(mo)(mo)面(mian)(mian)(mian)的(de)(de)(de)(de)分(fen)(fen)子(zi)在極化和(he)發生(sheng)(sheng)化學變化時根(gen)本能量缺(que)乏(fa)，也(ye)會(hui)造成(cheng)(cheng)膜(mo)(mo)(mo)面(mian)(mian)(mian)外(wai)(wai)(wai)表張(zhang)力(li)缺(que)乏(fa)的(de)(de)(de)(de)問(wen)題，所以，把電(dian)暈(yun)(yun)(yun)處(chu)理(li)輥處(chu)的(de)(de)(de)(de)膜(mo)(mo)(mo)面(mian)(mian)(mian)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)控制在適當的(de)(de)(de)(de)溫(wen)(wen)(wen)度(du)(du)范(fan)圍內是(shi)電(dian)暈(yun)(yun)(yun)處(chu)理(li)的(de)(de)(de)(de)一(yi)(yi)個(ge)關鍵問(wen)題，這(zhe)也(ye)是(shi)我們(men)在長期生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)(chan)中摸索(suo)發現的(de)(de)(de)(de)。

3電暈處(chu)(chu)理中電暈強度(du)和處(chu)(chu)理時間的控(kong)制

在生(sheng)產中(zhong)，為了使薄膜(mo)外表(biao)(biao)張力的(de)處理(li)到(dao)達某一等級(ji)，通常采用(yong)的(de)方法是增加電(dian)暈處理(li)的(de)強(qiang)度，在一定(ding)界(jie)限內，這(zhe)(zhe)種(zhong)方法是行之有效的(de)，當超(chao)過(guo)(guo)這(zhe)(zhe)一界(jie)限后(hou)，即使再增加電(dian)暈，也不(bu)會(hui)使薄膜(mo)外表(biao)(biao)能(neng)(neng)等級(ji)得到(dao)提(ti)高(gao)，這(zhe)(zhe)是因為當膜(mo)在瞬(shun)時(shi)進展電(dian)暈處理(li)過(guo)(guo)程中(zhong)，電(dian)極與電(dian)暈輥之間的(de)空氣(qi)量處于(yu)一種(zhong)相對(dui)穩定(ding)狀態，而這(zhe)(zhe)相對(dui)穩定(ding)空氣(qi)量中(zhong)的(de)氧(yang)氣(qi)分子含(han)量是一定(ding)的(de)，即使提(ti)高(gao)電(dian)極的(de)電(dian)壓(ya)和電(dian)流(liu)值(zhi)，也不(bu)能(neng)(neng)激活更多的(de)氧(yang)分子，使更多的(de)含(han)氧(yang)官(guan)能(neng)(neng)團駐極到(dao)薄膜(mo)外表(biao)(biao)，到(dao)達提(ti)高(gao)薄膜(mo)外表(biao)(biao)能(neng)(neng)的(de)目的(de)。

一(yi)般說來(lai)，電暈(yun)(yun)處理(li)(li)的(de)(de)時(shi)間越(yue)長(chang)(chang)，外(wai)表能也會(hui)越(yue)高。但是，一(yi)方(fang)面(mian)在(zai)固有設(she)備(bei)的(de)(de)條件下，延長(chang)(chang)電暈(yun)(yun)處理(li)(li)時(shi)間，必然會(hui)降(jiang)低生產(chan)效率；另一(yi)方(fang)面(mian)，過長(chang)(chang)的(de)(de)電暈(yun)(yun)處理(li)(li)時(shi)間，會(hui)使薄膜外(wai)表張力太大，出現(xian)脆化現(xian)象乃(nai)至降(jiang)解，不利于膜的(de)(de)一(yi)次收卷(juan)和二(er)次復卷(juan)，我們在(zai)某單位的(de)(de)設(she)備(bei)上(shang)就(jiu)此進(jin)展過成功的(de)(de)試驗。

4電(dian)暈處理輥和電(dian)極(ji)平(ping)行

輥(gun)面和(he)電(dian)極面的(de)不(bu)(bu)平行(xing)會導致電(dian)暈(yun)處理不(bu)(bu)均，原因是電(dian)暈(yun)強度(du)有差異，由下式

電暈強度=P/W．V

式中：P——電(dian)暈(yun)裝置放電(dian)功率，W；

W——膜寬，m;

V——膜速，m/min；

從上(shang)式看出，電暈(yun)強(qiang)度(du)正(zheng)比于電暈(yun)放(fang)電功率，而電暈(yun)放(fang)電的功率方程式為(wei)：　

P=4CdVsf［V0-(Cd+Cg/Cd)Vs］

式中：Cd——介電體電容(rong)，F；

Cg——放(fang)電間隙電容，F；

V0——驅動電壓(峰值)，V；

Vs——間隙發(fa)火電壓(峰值(zhi))，V；

f——驅動電壓頻率，Hz。

由上式顯見，間隙(xi)大(da)小不一，直接(jie)導致(zhi)單位(wei)面(mian)積上的(de)(de)(de)放電功率不均，由于各處電暈的(de)(de)(de)差異，最終影響浸潤張力的(de)(de)(de)一致(zhi)性。

5膜運行的平穩性

如果膜在(zai)運行中，輥筒施加于膜上的張力的不一致(zhi)，這種差異(yi)會(hui)發生(sheng)局部皺折，使該部位在(zai)電(dian)暈處(chu)理時電(dian)容量發生(sheng)變化，最終也會(hui)導致(zhi)浸潤張力的不均勻。

除上述輥(gun)筒同步(bu)有差異(yi)外，還有電暈處理(li)輥(gun)上的夾輥(gun)和電暈處理(li)輥(gun)到(dao)后擴展輥(gun)對膜的擴展，以及輥(gun)與輥(gun)之(zhi)間平行度(du)、輥(gun)面水(shui)平度(du)等，均有可能(neng)導致薄膜運行姿態的不(bu)夠平穩(wen)。

6薄膜發脆走偏問(wen)題

電暈(yun)處理(li)中，要有一個度的問題，如果注(zhu)入功率過大，那么會(hui)出(chu)現水溫提得(de)過高，影(ying)(ying)響到(dao)薄(bo)膜(mo)分子間的次價鍵力(li)而出(chu)現發(fa)脆，即影(ying)(ying)響薄(bo)膜(mo)的使用，又使卷(juan)制電容(rong)器(qi)時邊緣無法卷(juan)齊，只得(de)以降低速度來完成卷(juan)制任(ren)務，從而給電容(rong)器(qi)的制作工藝(yi)造成不利。

7廢(fei)氣污染問(wen)題

電暈處(chu)理過(guo)程中(zhong)(zhong)，由(you)于(yu)兩極間施加高(gao)壓，產(chan)生的(de)(de)電子(zi)對兩極間空(kong)氣中(zhong)(zhong)的(de)(de)分子(zi)進展碰撞和激活，產(chan)生臭氧及一(yi)(yi)氧化氮等物質(zhi)，在一(yi)(yi)定的(de)(de)溫度下，由(you)于(yu)它們的(de)(de)親水(shui)性(xing)，會與空(kong)氣中(zhong)(zhong)的(de)(de)水(shui)分子(zi)相結合，產(chan)生含(han)有亞硝酸(suan)(suan)鹽(yan)、硝酸(suan)(suan)鹽(yan)成份(fen)的(de)(de)廢液，并(bing)(bing)且隨(sui)著(zhu)空(kong)氣濕(shi)度的(de)(de)增加而增加。如果(guo)對產(chan)生的(de)(de)廢液不能及時進展很好(hao)的(de)(de)清理，在排出管道或電極罩殼中(zhong)(zhong)存留下來，就可能流滴到輥面，并(bing)(bing)隨(sui)著(zhu)輥的(de)(de)轉(zhuan)動(dong)而造成膜面污染，造成薄膜局部浸潤張力降低、附著(zhu)不牢等，形(xing)成產(chan)品質(zhi)量問題。

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